发布时间：2023-11-15 来源：网络
JSR以缩短工艺时间，材料零缺陷为目标提高材料的性能，优化材料帮您解决现有处理废液费力而且成本高昂的问题。
通过调节研磨颗粒、化学药剂、pH值、氧化剂用量等，我们可任意调节各W bulk／W buff研磨液在各种膜上的抛光速率和选择比，从而在短时间内响应客户的要求。
尖锐粒径分布的高纯度胶体二氧化硅具有低划痕性能。此外，可以通过使用添加剂调整 ζ -电位来减少晶圆表面的缺陷。
・我们通过专业知识，可根据您的需求调整W，Oxide，SiN等异种材料的抛光速度和选择比。
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JSR在全球各地区均设有化学机械研磨耗材开发基地和生产基地，以满足各地区客户的需求。
从传统一代到先进一代，JSR将各种类型的量产研磨液，提供给到众多客户，其中不乏半导体制造业的顶级制造商，同时我们仍在不断的与客户们一起研发新型研磨液产品。
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我们快速灵活地为您的制程工艺构建提供优质的样品材料，为加速您的工艺构建做出贡献。
JSR自1979年4月开始销售光刻胶以来，以满足半导体行业的需求为宗旨，40多年来不断的向全球客户提供光刻材料、CMP材料和封装材料。
JSR在致力于解决全球客户问题的同时，半导体材料的销售额也随之稳步增长。
我们将继续以在日本开发的技术为基础，应对各种半导体工艺上的课题挑战，为半导体市场的增长做出重大贡献。
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